PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。PVD镀膜能够镀出的膜层种类,PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?
电镀设备真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
为了提高镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能良好，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。
镀膜机镀膜工艺的时候该如何调试和掌控均匀性
从开机，到镀膜整套流程完成，都离不开调试机器机这一环节，因此想要成为一位的镀膜技术人员，调试镀膜机方法和技巧是必须要掌握的要领。特别是新员工，刚上手镀膜工艺的时候，经常会出现镀膜机调试不达标，镀膜均匀性把控不好，因此而烦恼。下面至成真空小编为大家讲解一下，关于真空镀膜机该如何进行时调试和镀膜的时候如何把控好镀膜均匀性，才能顺利完成镀膜整个流程。
首先需要先测试设备的抽真空速度，在测试过程中检查漏气情况与各真空泵的性能；然后再测试设备的密封性能，就是抽到极限后保压1小时看压降是否达标，同时排除细小的漏孔；第三步，产品试作，检验其他的性能，比如传动、加热、绝缘等等；如果有工艺保证的话就继续打样并作测试；并且所有的测试应作记录，并有记录人签字以及有使用部门或工程部门的人确认签字即可。对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。
