提供***化学技术的多样化解决方案
成立于1985年，总部设在美国新泽西州，富兰克林市，高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司
公司业务覆盖范围包括北美，亚太以及欧洲
基于多样化的技术
应用领域：微电子、光电子、LED、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷
解决方案：的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(Barrior Layere)、湿法制程
客户：从财富100强到以风险***为背景的设备研发及制造公司
使命
目标
提供特殊***和全新工艺来增加客户的产能
策略
提供的产品来优化生产制程，以提高设备能效
领的技术提升生产过程中的整体
工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能
增加客户的产能和生产的效率
工艺减化
非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定
在生产过程中，不含***溶剂
支持所有客户的需要，与客户共创成功
PR1-2000A1PR1 1500A1光刻胶
4，***
前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行***，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，
光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段；
对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。
***时间，由光源强度，光刻胶种类，厚度等决定，
另外，为降低驻波效应影响，可在***后需进行烘焙，称为光后烘焙（PEB）
PR1-2000A1 试验操作流程
PR1-2000A1的厚度范围可以做到 1500到3500nm，如下以膜厚2900nm为列；
1，静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒。同时必须需要在1秒内达到从0转/分到1300转/分的升速度；
2，PR1 1500A1光刻胶价格，前烘：热板120度120秒；
3，冷却至室温；
4，PR1 1500A1光刻胶哪家好，用波长为365，406，436的波长***，PR1 1500A1光刻胶，
5，PR1 1500A1光刻胶公司，在温度为20-25度，使用RD6浸泡式、喷雾、显影 ；
6，去除光刻胶，可使用CH3COCH3，RR5，RR41等。
PR1 1500A1光刻胶-北京赛米莱德由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前赛米莱德在半导体材料中享有良好的声誉。赛米莱德取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。赛米莱德全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
