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光刻胶的应用
光刻胶的应用
1975年,PR1 2000A1光刻胶公司,美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的超净高纯***制定了国际统一标准——SEMI标准。1978年,德国的伊默克公司也制定了MOS标准。两种标准对超净高纯***中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧重,分别适用于不同级别IC的制作要求。其中,SEMI标准更早取得世界范围内的普遍认可。
光刻胶市场
我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元,同比增长11%,高于国际市场增速,但占比仍不足15%,发展空间巨大。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨,PR1 2000A1光刻胶多少钱,而需求量为10.12万吨,依照需求量及产量增速预计,未来仍将保持供不应求的局面。据智研咨询估计,得益于我国平面显示和半导体产业的发展,我国光刻胶市场需求,在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上,我国光刻胶厂商主要生产PCB光刻胶,而LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小,相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场,光刻胶也主要被美国Futurrex 的光刻胶、日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。
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