半导体工业用气体品种多、质量要求高、用量少，大部分是***或腐蚀性气体。品种高达百余种。半导体工业特种气体应用分类，主要包括：
1.硅族气体：含硅基的类，如、二氯二氢硅、乙等。
2.掺杂气体：含硼、磷、等三族及五族原子之气体，如三氯化硼、三、磷烷、烷等。
3.蚀刻清洗气体：以含卤化物及卤碳化合物为主，如、三氟化氮、、四氟化碳、六氟等。
4.反应气体：以碳系及氮系氧化物为主，如二氧化碳、氨、氧化亚氮等。
5.金属气相沉积气体：含卤化金属及有机烷类金属，如六氟化钨、三等。
工业氧气的制取方法
1、分离液态空气法
在低温条件下加压，使空气转变为液态，然后蒸发，由于液态氮的沸点是‐196℃，比液态氧的沸点（‐183℃）低，因此氮气首先从液态空气中蒸发出来，剩下的主要是液态氧。
空气中的主要成分是氧气和氮气。利用氧气和氮气的沸点不同，从空气中制备氧气称空气分离法。首先把空气预冷、净化（去除空气中的少量水分、二氧化碳、、碳氢化合物等气体和灰尘等杂质）、然后进行压缩、冷却，使之成为液态空气。然后，利用氧和氮的沸点的不同，在精馏塔中把液态空气多次蒸发和冷凝，将氧气和氮气分离开来，得到纯氧（可以达到99.6%的纯度）和纯氮（可以达到99.9%的纯度）。如果增加一些附加装置，还可以提取出***、、氦、、氙等在空气中含量的稀有惰性气体。
铁氧化后不只会有铁锈还有氢气等其他对******的气体被排出。铁被氧化后形成铁锈，铁锈很疏松，很简单形成小颗粒混入氧气中。被吸入，然后引起等呼吸道的损伤。所以氧气生产上很大程度的降低氧气中的水分含量是极其重要的。
工业氧是用于工业生产及产品加工的气体，质量要求较低一般要求纯度在99%以上为合格。灌装规程不如氧气严厉，常常会有水分和其他杂质混入而且残留在钢瓶氧气钢瓶中，混入和残留在钢瓶中的水份会导致氧气瓶内壁锈蚀，然后使瓶内气体带有异味。
