20世纪90年代末，人们已能够运用多种物***相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)的方法制备c—BN薄膜。从中国国内看，氮化硼粉，发展突飞猛进，1963年开始BN粉末的研究，1966年研制成功，1967年投入生产并应用于我国工业和技术之中。理化性质编辑物质特性CBN通常为黑色、棕色或暗红色晶体，氮化硼，为闪锌矿结构，纳米氮化硼，具氮化硼有良好的导热性。硬度仅次于金刚石，是一种超硬材料，常用作刀具材料和磨料。 [3]
杳田新材料科技(上海)有限公司是一家在纳米材料领域进行产品研发、生产和销售的现代化高科技公司。Sokolowski成功利用脉冲等离子体技术在低温低压下制备成立方氮化硼(CBN)膜。所用设备简单，工艺易于实现，因此得到迅速发展。已出现多种气相沉积方法。传统来讲主要是指热化学气相沉积。实验装置一般由耐热石英管和加热装置组成，基体既可以通过加热炉加热(热壁CVD)，也可以通过高频感应加热(冷壁CVD)。
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