在静电喷粉中，将粉末放入流化桶中，调节流化空气压力，使粉末达到沸腾状态。喷涂时，喷应距工件150-200mm，喷涂时喷应垂直于工件匀速移动。普通粉末和金属粉末的流化空气压力应根据粉末的沸腾条件确定，压力范围为0.30-0.50MPa。
注意，普通粉末与金属粉末在出粉量、送粉气压、电流、电压等方面存在差异，应根据需要喷涂的工件不同进行设置。
平板工件出粉量为50--90，送粉压力为0.40--0.50MPa，电流为20--50uA，电压为60--90Kv。背喷工件出粉量30-50，送粉压力0.30-0.40MPa，电流8-15uA，电压50-70Kv。
工件越复杂，应降低喷涂电流和电压，电流控制在10--20uA，电压控制在50-70Kv，风量控制在0.30-0.40MPa。金属粉末输出30-60，送粉压力0.30-0.45MPa，电流10-20uA，电压50-60KV。
加热至预定温度，一般为190度(实际炉温)，并在相应时间内保持温度(3.0板以下25-30分钟，3.0板以上35-40分钟)。
喷的装粉率由静电性能和粉末输出状态决定。只有当电场强度和粉末输出达到理想的匹配点时，才能达到理想的静电喷粉加载速率。喷输出的粉末过多会影响粉末输出的均匀性，表面涂装收费，这是许多大型粉末喷粉末输出不均匀的根本原因。不良粉末状态可能导致涂层厚度不均匀的问题。
表面处理加工
高真空方法 ：
真空镀vacuum plating 真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，芜湖表面涂装，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。
(1)真空蒸发镀 在高真空容器中，将金属材料加热蒸发，并镀着在制件表面上，形成与基体牢固结合的金属或非金属覆盖层的过程称为真空蒸发镀，简称真空镀或蒸发镀，如真空镀铝，真空镀镀金等。
(2)溅射镀 在高真空容器中，在低气压下使离子在强电场作用下轰击膜料，使其表面原子逸出并沉积在制件表面上形成薄膜的过程称为溅射镀，如溅射硅、溅射银等。
(3)离子镀 在高真空容器中，在低气压下利用蒸发源蒸出的粒子，经过辉光放电区部分电离，通过扩散和电场作用，沉积于制件表面形成与基本牢固结合镀覆层的过程称为离子镀，如镀氮化钛等。
(4)化学气相镀 在低压下，利用气态物质在固态表面上进行化学反应生成与基体结合良好的固体沉积层的过程称为化学气相镀（有时也有常压下进行）。如气相沉积氧化硅、氮化硅等。
(5)离子注入 在高压电下将不同离子注入工件表面以改变表面性质的过程称为离子注入，如注硼等。
热喷涂工艺方法中应用较广泛的有火焰喷涂、电弧喷涂、等离子喷涂、喷涂和超音速喷涂技术。火焰喷涂是通过火焰喷实现的，喷通过气阀分别引入、氧气或压缩空气，表面涂装公司，和氧气混合后在喷嘴出口处产生燃烧火焰，引入的粉状或棒状涂材在火焰中被加热熔化后，在焰流的作用下形成雾状小液滴被喷射到基体表面形成涂层。
电弧喷涂所用的两根线状材料涂层材料由送丝轮自动导入，当在两线状材料之间通过大电流时将产生电弧，线状材料在电弧的高温作用下迅速熔化，并由压缩空气作用成小液滴被喷射到基体表面形成涂层。
等离子喷涂适用于粉状涂层材料，等离子喷将电能转化为热能，产生高温高速的等离子焰流，其等离子焰流温度可高达50000℃，能熔化所有的喷涂材料。
喷涂是利用可燃性气体与氧气混合物点炸提供的能量，将粉体喷射到基体表面而形成涂层。
超音速火焰喷涂方法因具有很高的粒子撞击速度，使得涂层结合强度、硬度、致密性、耐磨性都得到了改善。
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