




6,坚膜
坚膜也叫后烘,是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象,能使胶膜附着能力增强,康腐蚀能力提高。坚膜温度通常情况高于前烘和***后烘烤的温度 100-140度 10-30min,7,显影检验,光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准不良、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡,针KONG、小岛。
8刻蚀
就是将涂胶前所垫基的薄膜中没有被光刻胶覆盖和保护的那部分进行腐蚀掉,达到将光刻胶上的图形转移到下层材料的目的。湿法刻蚀,SIO2,AL, Poly-Si 等薄膜,干法腐蚀。
NR77-25000PNR9 3000PY光刻胶

五、***
在这一步中,NR9 3000PY光刻胶公司,将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应,NR9 3000PY光刻胶价格,从而使正光刻胶被照射区域(感光区域)、负光刻胶未被照射的区域(非感光区)化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域,在下一步的能够溶解于特定的显影液中。
在接受光照后,正性光刻胶中的感光剂DQ会发生光化学反应,变为乙烯酮,并进一步水解为茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid, CA),羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍,NR9 3000PY光刻胶,产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度,就可以进行掩膜图形的转移。
***方法:
a、接触式***(Contact Printing)掩膜板直接与光刻胶层接触。
b、接近式***(Proximity Printing)掩膜板与光刻胶层的略微分开,大约为10~50μm。
c、投影式***(Projection Printing)。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集光实现***。
d、步进式***(Stepper)
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