




正性光刻胶
正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中,感光剂是光敏化合物,常见的是重氮萘醌(DNQ)。在***前,DNQ是一种强烈的溶解,降低树脂的溶解速度。在紫外***后,DNQ在光刻胶中化学分解,成为溶解度增强剂,大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种***反应会在DNQ中产生羧酸,它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度,所以生成的图形具有良好的分辨率。
在光刻胶的生产上,我国主要生产PCB光刻胶,LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小, 2015年据统计我国光刻胶产量为9.75万吨,其中中低端PCB光刻胶产值占比为94.4%,NR9 3000PY光刻胶公司,半导体和LCD光刻胶分分别占比1.6%和2.7%,严重依赖进口。
纵观市场,光刻胶***生产壁垒高,NR9 3000PY光刻胶,国产化需求强烈。 化学结构特殊、保密性强、用量少、纯度要求高、生产工艺复杂、品质要求苛刻,生产、检测、评价设备***大,技术需要长期积累。
至今光刻胶***仍主要被被日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、美国杜邦、美国futurrex、德国巴斯夫等化工寡头垄断。

发展
Futurrex在开发产品方面已经有很长的历史
我们的客户一直在同我们共同合作,创造出了很多强势的产品。
在晶体管(transistor) ,封装,微机电。显示器,OLEDs,波导(w***eguides) ,NR9 3000PY光刻胶哪里有,VCSELS,
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目前Futurrex有数百个技术在美国商标局备案。
Futurrex 产品目录
正性光刻胶
增强粘附性正性光刻胶
负性光刻胶
增强粘附性负性光刻胶
***工艺负性光刻胶
用于lift-off工艺的负性光刻胶
非光刻涂层
平坦化,保护、粘接涂层
氧化硅旋涂(spin-on glas)
掺杂层旋涂
辅助***
边胶清洗液
显影液
去胶液
Futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(HMDS)



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