益阳高纯液氨-高纯液氨单价-信安达工业气体(推荐商家)

来自气体净化单元的合成气通过离心式合成气压缩机压缩至17.8 MPa，与循环气在合成气压缩机循环段缸内混合压缩到合成压力18.5 MPa，然后进入热交换器。在热交换器中，合成气被来自合成塔出口气体加热至合成塔进口温度126℃。在氨合成塔发生合成气反应后，合成塔出口氨浓度22.39%，反应气出口温度为441 ℃。反应器出口气体所带出的绝大部分热量依次在锅炉给水预热器得到了回收。然后气体依次通过热交换器、水冷器、冷交换器、氨冷器、第2氨冷器得到冷却。此时，反应生成的氨绝大部分已被冷凝并在高压氨分离器中分离，高压氨分离器出来的气体含氨3.84%，温度0℃，通过冷交换器加热后进入合成气压缩机循环段与新鲜气混合，然后重复上述循环。高压氨分离器出口液氨送往中压分离器减压至2.8MPa后，气相送往合成气压缩机新鲜段进口。液相产品氨送往下游。

低压法

操作压力10MPa左右，温度400～450℃。由于操作压力和温度都比较低，高纯液氨单价，故对设备要求低，容易管理，且催化剂的活性较高，这是此法的优点。但此法所用催化剂对毒物很敏感，高纯液氨供应商，易，使用寿命短，因此对原料气的精制纯度要求严格。又因操作压力低，氨的合成效率低，分离较困难，流程复杂。实际工业生产上此法已不采用了。合成氨工艺流程大概可以分为：原料气的制备；原料气的净化；气体压缩和氨的合成四大部分。

其他法

工业化连续生产（在催化剂的作用下）的过程中有副产物氨气生成，将这些氨气压缩并降温冷却即成液态氨。在此过程中要进行排污，而带入杂质，因此得到的液氨纯度较低，用途受到限制。

高纯氨应用原理是什么？

【1】  Ga(CH3)3+ NH3 → GaN + 4CH4；

这个反应是制造发光二极管（LED）外延芯片的氮化的基 础，益阳高纯液氨，反应在昂贵的 MOCVD （有机金属气相沉积）设备上完成。

【2】  3SiH4 + 4NH3→ Si3N4 + 12H2；

这个反应是制造氮化硅（Si3N4 ）的基础，高纯液氨生产厂，由（SiH4 ）和高纯氨在较高温度下，在化学气相沉积（CVD）设备中进行反应，此反应也需要相当数量的高纯氨气。

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