平面研磨机研磨的三种方式1)研磨外圆说明：①研磨外圆一般在精磨或精车基础上进行。手工研磨外圆可在车床上进行，工件和研具之间涂上研磨剂，工件由车床主轴带动旋转，研具用手扶持作轴向往复移动。②平面研磨机研磨外圆在研磨机上进行，一般用于研磨滚珠类零件的外圆。2)研磨内圆说明：研磨内圆需在精磨、精铰或精镗之后进行，一般为手工研磨。研具为开口锥套，套在锥度心轴上研磨剂涂于工件与研具之间，手扶工件作轴向往复移动。平面研磨机研磨一定时间后，向锥度心轴大端方向调整锥套，使之直径胀大，以保持对工件孔壁的压力。3)研磨平面说明：研磨平面一般在精磨之后进行。手工研磨平面时，研磨剂涂在研磨平板(研具)上，手持工件作直线往复运动或“8”字形运动。研磨一定时间后，将工件调转90°～180°，以防工件倾斜。对于工件上局部待研的面、方孔、窄缝等表面，也可手持研具进行研磨。批量较大的简单零件上的平面亦可在平面研磨机上研磨。
哪些因素会影响平面研磨机研磨盘的工作效果
哪些因素会影响平面研磨机研磨盘的工作效果平面研磨机在研磨加工陶瓷等硬脆材料时研磨盘将会很快发生磨损，造成加工表面质量和精度严重下降，这就势必要频繁地修整研磨盘，不但影响加工效率，增加加工成本，也导致产品合格率降低，因此在研磨过程中，研磨盘显的尤其重要,而影响研磨盘的有两个方面：，研磨盘的磨损程度：磨损越大，研磨盘使用寿命越短，那么对于生产者来说当然是磨损越小越好。关于这点，我们通常可以通过提高平面研磨机切削速度来降低研磨盘磨损，因为切削速度的提高不但不会影响工件的加工精度，还可以增加工件的材料去除率，降低研磨盘磨损。第二，研磨盘磨损的均匀性：研磨盘磨损不均匀会改变研磨盘平整度，不平整的研磨盘会造成研磨压力不均匀，导致工件平面度达不到加工要求。而均匀性好能保证在批量加工中，在较长时间内加工的工件都具有较好的面形精度，从而降低研磨盘的修盘频率，提高加工效率和产品合格率，并降低成本。所以，在平面研磨机设计之初就要能预知研磨盘的磨损形态，并对研磨机进一步结构优化，以保证研磨盘平面度，从而可以降低研磨盘的修整频率，提高加工效率和产品合格率，让研磨过程变得更顺利，效果也变得更加的。
时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析抛光液PH值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，平面抛光研磨机抛光时的PH值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光效果!抛光液中PH值参数是衡量一种液体性能是否稳定的重要因素。很多抛光液使用者并没有清楚的意识到这一点，他们往往对抛光液内的粒度分布，粒径大小，均匀性，配比等感兴趣，而忽略了一个重要的因素-PH值对整个液体状的的影响。在化学性质的液体中，PH值的大小影响着液体性能的稳定。抛光液一般在微酸或者微碱的时候，对平面抛光研磨机工件的抛光效果，所能达到的表面粗超度。当PH值偏碱性时，粗超度变大。所以在配置这种液体的时候，我们不能忽略这一点，一定要反复试验，取得一个稳定值。抛光液的PH值是变化的。这是因为抛光液会随着时间的变化而变化。由于某些工件在抛光时产生水解作用,在实际抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间不断变化。在每次添加抛光液后,pH值的变化为剧烈。因此一开始先每隔15s测量一次,之后每隔1min测量一次,从而可得出不同初始pH值的抛光液在抛光过程中pH值的变化规律。在对不含有碱金属氧化物,不会与水产生水解反应,在平面抛光研磨机的抛光过程中抛光液的pH值基本保持不变,所以其抛光方法也不同。
