




芯片光刻的流程详解(二)
所谓光刻,根据维基百科的定义,这是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用***和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。
光刻胶市场
我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元,同比增长11%,高于国际市场增速,NR9 3000PY光刻胶,但占比仍不足15%,发展空间巨大。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨,而需求量为10.12万吨,依照需求量及产量增速预计,未来仍将保持供不应求的局面。据智研咨询估计,得益于我国平面显示和半导体产业的发展,我国光刻胶市场需求,在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上,我国光刻胶厂商主要生产PCB光刻胶,而LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小,相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场,光刻胶也主要被美国Futurrex 的光刻胶、日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。
20.有没有光刻胶PC3-6000的资料吗?
A PC3-6000并不是光刻胶,它是用在chip
on glass 上的胶粘剂。
21.是否有Wax替代品?
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比较容易去除掉。
22.贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料?
A 有,IC1-200就是
23.请问是否有不用HMDS步骤的正性光刻胶?
A 美国Futurrex 整个系列的光刻胶都不需要HMDS步骤,都可以简化。
24.一般电话咨询光刻胶,我们应该向客户咨询哪些资料?
A 1 需要知道要涂在什么材质上,2
还有要知道需要做的膜厚,3
还要知道光刻胶的分辨率
4还有需要正胶还是负胶,5
需要国产还是进口的
27.想找一款膜厚在120um,的光刻胶,有什么光刻胶可以做到啊!
A 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到Futurrex
NR21-20000P ,。
28.有没有了解一款美国Futurrex
NR9-250P的光刻胶,请教下?
A 这是一款负性光刻胶,湿法蚀刻使用的,NR9 3000PY光刻胶多少钱,附着力很好,耐100度的温度,国内也有可以代理的公司,Futurre
光刻胶是世界第4大的电子***制造商,在光刻胶的领域有着不错的声誉,NR9 3000PY光刻胶哪家好,在太阳能光伏,和LED半导体行业都有不错的市场占有率。
29.想找款膜厚的产品,进行蚀刻,NR9 3000PY光刻胶哪里有,有什么好推荐?
A 厚膜应用(thick
film applicati),主要是指高纵横比(Aspect
ratios),高分辨率,高反差,有几款产品向你推荐一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,这些产品都需要用到边胶清洗液》
的光刻
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