PR1 1500A1光刻胶公司-赛米莱德

光刻胶介绍

光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中，PR1 1500A1光刻胶公司，半导体光刻胶的技术壁垒较高。

从技术水平来看，PR1 1500A1光刻胶，在PCB领域，国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力，PR1 1500A1光刻胶哪家好，已经实现对主流厂商大批量供货。

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光刻胶的参数是什么？

分辨率、对比度和敏感度是光刻胶的技术参数。随着集成电路的发展，芯片制造特征尺寸越来越小，对光刻胶的要求也越来越高。光刻胶的技术参数包括分辨率、对比度和敏感度等。为了满足集成电路发展的需要，PR1 1500A1光刻胶报价，光刻胶朝着高分辨率、高对比度以及高敏感度等方向发展。

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   光刻胶的主要技术参数

1．灵敏度（Sensitivity）

灵敏度是衡量光刻胶***速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的***剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。

2．分辨率（resolution）

区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。

光刻胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：

(1) ***系统的分辨率。

(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子质量等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。

(3) 前烘、***、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。  

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