光刻胶的组成
光刻胶一般由4种成分组成:树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。树脂是光刻胶中占比较大的组分，构成光刻胶的基本骨架，主要决定***后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、耐腐蚀性、热稳定性等。光活性物质是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等其决定性作用。
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光刻胶的成分
树脂:光刻树脂是一种惰性的聚合物基质 ，光刻胶价格，是用来将其他材料聚合在一-起的粘合剂。 光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。
感光剂:感光剂是光刻胶的部分，他对光形式的辐射能，特别在紫外区会发生反应。***时间、光源所发射光线的强，度都根据感光剂的特性选择决定的。
溶剂:光刻胶中容量较大的成分，光刻胶哪家好，感光剂和添加剂都是固体物质，为了方便均匀的涂覆，要将他们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，并且使之具有良好的流动性，光刻胶多少钱，可以通过选择方式涂布在waf er表面。
添加剂:用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂。
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光刻胶的概述
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过***后，受到光照的部分变得容易溶解，光刻胶，经过显影后被溶解，只留下未受光照的部分形成图形；而负胶却恰恰相反，经过***后，受到光照的部分会变得不易溶解，经过显影后，留下光照部分形成图形。
负胶在光刻工艺上应用早，其工艺成本低、产量高，但由于它吸收显影液后会膨胀，导致其分辨率（即光刻工艺中所能形成图形）不如正胶，因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术，主要使用正胶作为光刻胶。
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