问题回馈：
1．我们是LED制造商，NR26 25000P光刻胶厂家，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。
A 据我所知，NR26 25000P光刻胶，Futurrex
有几款胶很，NR7-1500P
NR7-3000P是专门为离子蚀刻
设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。
2．请问有没有可以替代goodpr1518，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？
A 美国光刻胶，Futurrex
正胶PR1-2000A
， 去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。
3．你们是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的应用产品？
A 我们建议使用Futurrex
PR1-500A ， 它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，
反射比较少，不需要HMDS，RIE后去除容易等~
4． 求助，耐高温的光阻是那一种？
A Futurrex， NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻)，再经过HMCTS
silyiation process，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，可耐高温250度以上。
5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？
A Futurrex ， NR4-8000P比干膜，和其他市面上的湿膜更加适合，和理想。
6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合？
A 可以考虑使用Futurrex
，正型光阻PR1，负型光阻用NR1&NR7，它们都可以耐高温180度，NR26 25000P光刻胶哪家好，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7．请问，那位知道，RIE
Mask，用什么光阻比较好？
A 正型光阻用PR1系列，负型光阻使用NR5，两种都可以耐高温180度。
8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？
A NR9-8000P有很高的深宽比（超过4：1），一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。
9．在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗？
A 建议不使用，因为使用NR5-8000更加理想和适合。
10．我们是OLED，我们有一种制程上需要一层SPACER，那种光阻适合？
A 有一种胶很适合，美国Futurrex
生产的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY，NR26 25000P光刻胶哪里有，都适合在OLED制程中做spacers
?Futurrex
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6，坚膜
坚膜也叫后烘，是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象，能使胶膜附着能力增强，康腐蚀能力提高。坚膜温度通常情况高于前烘和***后烘烤的温度 100-140度 10-30min，7，显影检验，光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准不良、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡，针KONG、小岛。
8刻蚀
就是将涂胶前所垫基的薄膜中没有被光刻胶覆盖和保护的那部分进行腐蚀掉，达到将光刻胶上的图形转移到下层材料的目的。湿法刻蚀，SIO2，AL， Poly-Si 等薄膜，干法腐蚀。
NR26 25000P光刻胶-北京赛米莱德公司由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前赛米莱德在半导体材料中享有良好的声誉。赛米莱德取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。赛米莱德全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
