




万级无尘车间标准包括哪些内容?1、尘粒***大允许数(每立方米);2、大或等于0。5微米的粒子数不得超过350000个,大或等于5微米的粒子数不得超过2000个;3、微生物***大允许数;4、浮游菌数不得超过100个每立方米;5、沉隆菌数不得超过3个每培养皿。6、配电:洁净室(区)的主要生产用房一般照度值宜≥300Lx;辅助工作室、人员净化和物料净化用室、气闸室、走廊等的照度值宜为200~300Lx。

净化车间(CleanRoom),亦称为洁净室或清净室。它是污染控制的基础。没有洁净室,污染敏感零件不可能批量生产。在FED-STD-2里面,洁净室被定义为具备空气过滤、分配、优化、构造材料和装置的房间,其中特定的规则的操作程序以控制空气悬浮微粒浓度,从而达到适当的微粒洁净度级别。洁净室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、***空气、***等之污染物排除,并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内,而所给予特别设计之房间。洁净室:温度、湿度、压力(压差)、洁净度、浮游菌、沉降菌受控的空间。两者没有本质的区别,无尘洁净室,但适用标准、等级有所差异。

半导体、集成电路生产的无尘车间要求半导体材料提纯作为发展半导体器件的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求,为得到高纯度的硅材料,原料和中间媒介的高纯度和生产环境的洁净度成为影响产品质量的一个突出问题。集成电路芯片的成品率与芯片的缺陷密度有关,而芯片的缺陷密度与空气中粒子个数有关。因此,集成电路的高速发展,不仅对空气中控制粒子的尺寸有极高的要求,而且也需进一步控制粒子数;同时,对于超大规模集成电路生产环境的化学污染控制也有相关的要求。

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