光刻胶的性能
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光刻胶产品种类多、性强，是典型的技术密集型行业。不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同，导致对于材料的感光性能、溶解性、耐蚀刻性、耐热性等要求不同。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊，要求使用不同品质等级的光刻胶化学品。
光刻胶分类情况是怎样
1、光聚合型。2、光分解型，采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后，会发生光分解反应，NR75 1000HP光刻胶哪家好，由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。
3、光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，其分子中的双键被打开，NR75 1000HP光刻胶，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。
上述内容主要所描述的就是小编对于光刻胶是什么材料？光刻胶分类情况是怎样的具体介绍，不同情况下面，大家使用的一些材料上存在着很大的差距，所以在这以前，有些方面情况上到底是怎样，这些是都得根据细节状况来的，对于物品调查办理前的一定也是不可以盲目做下定论，否则也容易为自己以后操作出现影响。
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光刻胶的组成
光刻胶一般由4种成分组成:树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。树脂是光刻胶中占比较大的组分，构成光刻胶的基本骨架，NR75 1000HP光刻胶公司，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、耐腐蚀性、热稳定性等。光活性物质是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等其决定性作用。
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