洁净室在科学技术不断引进的基础上，工业化产品的更新也日益获得了进步，使得诸多产物呈现出高科技特点。这也使得人们对于工业车间的要求日益严格，因此在保证技术密集的基础上，设计者为了提高技术经济效益，在进行千级洁净室的设计时应设法尽可能地考虑一定的灵活性，以便使建成后的车间能随着科学技术的发展，方便地进行技术改造，适应产品换代或设备更新的要求。
半导体、集成电路生产的无尘车间要求半导体材料提纯作为发展半导体器件的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求，为得到高纯度的硅材料，洁净室厂房，原料和中间媒介的高纯度和生产环境的洁净度成为影响产品质量的一个突出问题。集成电路芯片的成品率与芯片的缺陷密度有关，而芯片的缺陷密度与空气中粒子个数有关。因此，集成电路的高速发展，不仅对空气中控制粒子的尺寸有极高的要求，而且也需进一步控制粒子数；同时，对于超大规模集成电路生产环境的化学污染控制也有相关的要求。
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