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眼睛所受的伤害与波长有关：可见光(Visible light)与红外线(Infrared)中的IR-A影响视网；紫外线(Ultr***iolet)中的UV-B、UV-C及红外线的IR- B、IR-C影响；可见光和短波红外线(Near infrared；IR-A)会穿过清澈的眼中物质，而被视网吸收，所以若光束太强，就会伤害视网。激光光的高准直性(Collimation)，使光线能会聚于一个很小的点，在视网上约为10至20μm (比头发还细)。因此，东营腐蚀机设备，400nm到1400nm之间的激光，对视网具有特别高的***性，这个波段称为视网***区(Retinal hazard region)。

由于热流和震波(Shock w***e)的影响，环绕成像区的***也可能受损，而对视觉功能造成更严重的后果。因为视网******的修复能力甚低，这种伤害一般而言都是持久性的。

蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准***机，***系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准***、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时""到硅片上的过程。

光栅刻画:光学中光栅通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。

提高板子与板子之间蚀刻速率的一致性

在连续的板子蚀刻中，蚀刻速率越一致，越能获得均匀蚀刻的板子。要达到这一要求，必须保证蚀刻液在蚀刻的全过程始终保持在佳的蚀刻状态。这就要求选择容易再生和补偿，电力牌腐蚀机设备，蚀刻速率容易控制的蚀刻液。选用能提供恒定的操作条件和对各种溶液参数能自动控制的工艺和设备。通过控制溶铜量，PH值，大功率腐蚀机设备，溶液的浓度，温度，溶液流量的均匀性(喷淋系统或喷嘴以及喷嘴的摆动)等来实现。