碱性蚀刻液一般适用于多层印制板的外层电路图形制作,这种蚀刻方法在线路板制作中应用非常广泛,特别是图形电镀,这是较好的蚀刻方法之一。同时碱性蚀刻速度快,侧蚀刻小,溶铜量大,蚀刻液可以再生连续使用。
碱性CuCl2蚀刻液主要是由CuCl2和NH3-H2O组成,在CuCl2溶液中加入NH3-H2O会发生如下络合反应:CuCl2+4NH3-H2O=[Cu(NH3)4]Cl2+4H2O,在蚀刻机药箱内,铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化成Cu+。其氧化反应如下:[Cu(NH3)4]Cl2+Cu=2[Cu(NH3)2]Cl。生成的[Cu(NH3)2]+为Cu+的络离子,不具有氧化能力,在有过量NH3-H2O和Cl-存在的前提下,能很快被空气中的氧气所氧化,生产具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+。其络离子再生反应如下:
2[Cu(NH3)2]Cl+2NH4Cl+2NH3-H2O+1/2O2=2[Cu(NH3)4]Cl2+2H2O。
从上面的化学方程式可以看出,在蚀刻机工作过程中,每腐蚀1mol铜需要消耗2mol NH3-H2O和2mol NH4Cl。因此在腐蚀机蚀刻过程中,随着铜的溶解,应不断补充NH3-H2O和NH4Cl。







在碱性真空蚀刻机中,溶液Cu2+浓度、PH值、NH4Cl浓度、NH3-H2O浓度以及温度都会影响到蚀刻效率。掌握这些因素的影响才能有效的控制溶液,使之保持恒定的佳蚀刻状态,从而得到满意的蚀刻质量。通过我们多年的实践经验,得出以下结论,仅供参考:
Cu2+浓度对蚀刻速度的影响:在这种蚀刻液中,Cu2+是氧化剂,所以Cu2+的浓度对蚀刻机的蚀刻速度的影响占有重要因素。实际经验告诉我们,Cu2+浓度在0g/L~82.5g/L时,蚀刻速度很慢;在82.5g/L~135g/L时蚀刻速度较低,且控制困难;在135g/L~165g/L时,蚀刻速度高且溶液稳定;在165g/L~225g/L时,溶液不稳定,趋向于产生沉淀。
激光刀模蚀刻机归属于大规模反蚀刻机型,选用构造为上端(产品工件运载区)转动,智能电腐蚀机制作标牌机器,下边(洒水喷头)成视角晃动设计方案,高精度,效果非常的好,一般适用蚀刻加工深层在0.6mm之上的烫金版、印刷制版等刀模板制做,可一此出模——刀刃两边有倾斜度;或融合数控机床手工雕刻二次脱模——使腐蚀后的刀刃两边陡直,无倾斜度。有机化学铣切(有机化学腐蚀)是当代模貝加工的一种关键加工方式,近些年,在电子工业、轻工行业等行业获得普遍的运用,电力牌电腐蚀机制作标牌机器,它用以加工不一样的金属复合材料或开展非加工,获得了非常好的加工实际效果.有机化学铣切***是一种金属材料产品工件表面的融解***,金属电腐蚀机制作标牌机器,蚀刻液的成份和被蚀刻加工金属材料中间成生化学反应。伴随着照相制版腐蚀的发生早已发展趋势到光化学反应加工,加工精密度进一步提高.与机械设备加工对比,它有下列优势:
(1)不会受到产品工件原材料强度、抗压强度的限定.
(2)无切削速度,零件不容易因切削速度而造成 形变.
(3)加工全过程中无内应力.
(4)可多份与此同时加工,生产,机器设备简易。
应用领域:
1、该型号专适用激光刀模、烫金版、平板电脑模貝或金属材料单层腐蚀深层较深(一般0.8㎜之上)时加工状况;
2、一般用于蚀刻加工加工金属材料:不锈钢板、碳钢等合金钢原材料的金属片,实际可完成对金属片表面图型深层腐蚀加工的目地。商品比如:刀版、烫金版等;
3、该型号运用于刀版加工时,黄冈电腐蚀机制作标牌机器,关键腐蚀除去绝大多数图型之外不必要薄厚,做到刀版制做深层规定,刀刃基本上做到制做规定,但刀版一般必须二道数控加工中心加工,才可以使、刀刃陡直图型做到精密度设计方案规定,中后期再历经化学镍表面解决提升表面强度,提升耐印力、改进外型。


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