刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。
扩展资料：
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
1.手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，怀化商标腐蚀机报价，对准精度可想而知不高了；
2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行***调谐；
3.自动： 指的是 从基板的上载，***时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准***机，***系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，数码商标腐蚀机报价，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准***、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，环保商标腐蚀机报价，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时""到硅片上的过程。
光栅刻画:光学中光栅通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。
以不锈钢US304的浸蚀生产加工为主导蚀刻机中加上有机化学蚀刻液为：三氯化铁化学方程式：FeCl3=FeCl3·6H2O一.蚀刻液好标准波美度：38°—42°药液溫度：45°—50°PH值测量区段：1PH-3PH氧化物FeCl3二.水反映全过程三氯化铁蚀刻液对不锈钢的蚀刻是一个“空气氧化---复原”全过程：1.氧化还原反应：2FeCl3 Fe=3FeCl2三氯化铁 不锈钢 水=氯化亚铁 家具板材蚀刻制成品 水 不锈钢残渣三.药液降低的缘故及复原方法伴随着化学变化的开展，蚀刻液减少，是由于三氯化铁空气氧化变成氯化亚铁，这时必须将氯化亚铁转变成三氯化铁提升药液酸碱性。需添加溶液(氧化剂)﹑硫酸(缓聚剂)
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