金属蚀刻网片小编为您解答不锈钢蚀刻工艺中电解除油原理：
电解除油除了具有化学除油的皂化与乳化作用外，还具有电化学作用。在电解条件下，电极的极化作用降低了油与溶液的界面张力，溶液对钢片表面的润湿性增加，使油膜与金属间的黏附力降低，使油易于剥离并分散到溶液中乳化而除去。在电解除油时，不论是钢片作为阳极还是阴极，其表面上都有大量气体析出。当钢片为阴极时（阴极除油），其表面进行的是还原反应，析出氢气；钢片为阳极时（阳极除油），其表面进行的是氧化反应，析出氧气。电解时钢片与溶液界面所释放的氧气或氢气在溶液中起乳化作用。因为小气泡很容易吸附在油膜表面，随着气泡的增多和长大，这些气泡将油膜撕裂成小油滴并带到液面上，同时对溶液起到搅拌作用，加速了钢片表面油膜的脱除速度。电解除油用于要求高的工件，电解除油成本较高。
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杂质含量太高；三氯化铁质量差；活化不良；添加剂含量不足；氯离子浓度太高；磷酸离子浓度低；材料晶粒粗大；解决方法：加强活化过程；定期补加添加剂；添加磷酸；更换溶液；更换材料；
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兴之扬316不锈钢网片小编给大家介绍什么是二氧化硅的湿式蚀刻：
在微电子组件制作应用中，二氧化硅的湿式蚀刻通常采用HF溶液加以进行(5)。而二氧化硅可与室温的HF溶液进行反应，但却不会蚀刻硅基材及复晶硅。反应式如下：SiO2+6HF=H2+SiF6+2H2O
由于HF对二氧化硅的蚀刻速率相当高，在制程上很难控制，因此在实际应用上都是使用稀释后的HF溶液，或是添加NH4F作为缓冲剂的混合液，来进行二氧化硅的蚀刻。NH4F的加入可避免氟化物离子的消耗，以保持稳定的蚀刻速率。而无添加缓冲剂HF蚀刻溶液常造成光阻的剥离。典型的缓冲氧化硅蚀刻液(BOE:BufferOxideEtcher)(体积比6:1之NH4F(40%)与HF(49%))对于高温成长氧化层的蚀刻速率约为1000?/min。
在半导体制程中，二氧化硅的形成方式可分为热氧化及化学气相沉积等方式；而所采用的二氧化硅除了纯二氧化硅外，尚有含有杂质的二氧化硅如BPSG等。然而由于这些以不同方式成长或不同成份的二氧化硅，其组成或是结构并不完全相同，因此HF溶液对于这些二氧化硅的蚀刻速率也会不同。但一般而言，高温热成长的氧化层较以化学气相沉积方式之氧化层蚀刻速率为慢，因其组成结构较为致密。
