在电子线路板（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量逐渐增加。蚀刻液要达到佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（氯化铵）及氨水。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度佳水平，蚀刻用过后的溶液需不断由添加的药剂所取缔。显然，这样含铜、含氯化铵、氨水等******物质的废水不能直接进行排放，也不能直接回生产线循环使用。那么这种含铜、氯化铵、氨水等物质的碱性蚀刻液的废水怎么进行处理呢？直接电解法可以解决此类废水处理。本废水处理系统采用直接电解法，可以在回收桶的同时回收蚀刻剂，西安金属蚀刻，将大量原本需要排放的“用水蚀刻液”再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需要极量的的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。
从而取代蚀刻废液，该工艺不但可以减少蚀刻废液回收后的污水排放量，减少环境污染，同时还可以降低PCB厂家的生产成本。通过母液储罐储存，之间通过泵抽至电解槽直接电解，金属蚀刻加工，电解出高纯度的金属铜片，而经电解的蚀刻液再生还原成为可以再生蚀刻液，只需添加适量的氨水、蚀刻盐和补充剂，补偿因运作时失去的部分，重新投入蚀刻过程中，实现循环利用。直接电解法去除含铜碱性蚀刻液废水处理的优点1、基本为零排放：做到清洁生产、节能减排，降低工厂环保压力；2、减少了药消耗，做到降低生产成本；3、生产出值的电解铜，为企业创造经济效益；4、减少了生产换缸时间，提高了工程生产效率。直接电解法去除含铜碱性蚀刻液废水处理的系统组成1、储罐：收集产线排放蚀刻液及本系统处理后的再生液；2、铜提取系统装置：通过电解原理提取高纯度铜；3、再生调整装置：系统将已降低铜含量的蚀刻再生液通过添加药剂，使各项指标值达到生产所需要求待生产所用。
提高整个板子表面蚀刻速率的均匀性板子上下两面以及板面上各个部位的蚀刻均匀性是由板子表面受到蚀刻剂流量的均匀性决定的。
蚀刻过程中，上下板面的蚀刻速率往往不一致。一般来说，金属蚀刻公司，下板面的蚀刻速率高于上板面。因为上板面有溶液的堆积，减弱了蚀刻反应的进行。可以通过调整上下喷嘴的喷啉压力来解决上下板面蚀刻不均的现象。蚀刻印制板的一个普遍问题是在相同时间里使全部板面都蚀刻干净是很难做到的，板子边缘比板子中心部位蚀刻的快。采用喷淋系统并使喷嘴摆动是一个有效的措施。更进一步的改善可以通过使板中心和板边缘处的喷淋压力不同，板前沿和板后端间歇蚀刻的办法，达到整个板面的蚀刻均匀性。
透明导电膜在高透光下同时具有导电性，是光电领域中不可或缺的重要工业基础材料。随着光电子器件逐渐向大尺寸、轻薄、柔性、低成本方向发展，对的柔性及可拉伸透明导电膜的需求增长迅速。当前广泛使用的透明导电材料主要为ITO膜或玻璃，但因方阻较高、脆性结构限制了其在柔性光电器件上的使用；而新发展的基于导电聚合物、碳材料和金属纳米材料的柔性透明导电膜，普遍存在导电性和透过率相互制约的问题，在85%以上的透过率下方阻通常在数十欧每方块以上。基于铜箔黄光制程蚀刻的金属网格透明导电膜具有高导高透的优点受到了行业广泛关注，但工艺复杂，酸蚀刻工艺与铜离子造成的污染及其高成本也不容忽视
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