在电子线路板（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量逐渐增加。蚀刻液要达到佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（氯化铵）及氨水。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度佳水平，蚀刻用过后的溶液需不断由添加的药剂所取缔。显然，这样含铜、含氯化铵、氨水等******物质的废水不能直接进行排放，也不能直接回生产线循环使用。那么这种含铜、氯化铵、氨水等物质的碱性蚀刻液的废水怎么进行处理呢？直接电解法可以解决此类废水处理。本废水处理系统采用直接电解法，可以在回收桶的同时回收蚀刻剂，将大量原本需要排放的“用水蚀刻液”再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需要极量的的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。
从而取代蚀刻废液，该工艺不但可以减少蚀刻废液回收后的污水排放量，减少环境污染，同时还可以降低PCB厂家的生产成本。通过母液储罐储存，之间通过泵抽至电解槽直接电解，电解出高纯度的金属铜片，而经电解的蚀刻液再生还原成为可以再生蚀刻液，只需添加适量的氨水、蚀刻盐和补充剂，补偿因运作时失去的部分，重新投入蚀刻过程中，实现循环利用。直接电解法去除含铜碱性蚀刻液废水处理的优点1、基本为零排放：做到清洁生产、节能减排，降低工厂环保压力；2、减少了药消耗，做到降低生产成本；3、生产出值的电解铜，为企业创造经济效益；4、减少了生产换缸时间，提高了工程生产效率。直接电解法去除含铜碱性蚀刻液废水处理的系统组成1、储罐：收集产线排放蚀刻液及本系统处理后的再生液；2、铜提取系统装置：通过电解原理提取高纯度铜；3、再生调整装置：系统将已降低铜含量的蚀刻再生液通过添加药剂，雕塑蚀刻公司，使各项指标值达到生产所需要求待生产所用。
蚀刻曝出便是根据曝出印刷制版、显影后，即将蚀刻地区的防护膜除去，雕塑蚀刻价格，在蚀刻时触碰化学溶液，做到融解浸蚀的***，产生凸凹或是镂空雕花成形的实际效果。
显影是在硅片表面光刻胶中造成图型的关键因素。光刻胶上的能溶地区被有机化学显影剂融解，渭南雕塑蚀刻，将由此可见的岛或是对话框图型留到硅片表面。普遍的显影方式是转动、喷雾器、侵润，随后显影。硅片用双蒸水清洗后脱水。
1.蚀刻件的清洗，
蚀刻完毕以后要及时将蚀刻件水洗干净，必要时用稀释的中和溶液中和，因为蚀刻液都是有很强腐蚀性的液体。如果残留在蚀刻工件的表面，将来会造成蚀刻产品的腐蚀***或变色，所以水洗的工序很重要，一定要重视。
2.耐蚀防护层的清除
蚀刻制件经清洗干净后要吹干，然后用的方法去除保护涂层，如果是采用粘贴的有机膜，可以直接成片剥离;如果是涂料或油墨，用有效的溶剂或化学溶液溶解清除。
3.表面精饰
蚀刻后的制件可根据需要及设计要求进行表面精饰。如果要求表面光洁的，可进行电解抛光，一方面可以清除防蚀材料等残留物，雕塑蚀刻加工，也可以去除蚀刻过程附在表面的腐蚀产物。另外，通过抛光提高表面的光亮度。如果需要平光或哑光的，则采用哑光处理。
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