所谓目标性，就是通过某一工艺流程的全过程有一个明确的输出，电力牌腐蚀机制作标牌机器，或者说要达到某一特定的目的。对于金属蚀刻而言，盘锦腐蚀机制作标牌机器，这个目的就是满足其设计图纸对产品的要求。更具体地说，这些
要求包括产品的蚀刻尺寸要求、经蚀刻后的表面粗糙度要求等。
比如，环保腐蚀机制作标牌机器，对于装饰用途的图文蚀刻产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①要求经蚀刻后的图文清晰度要高;②要求经蚀刻后金属表面粗糙度要符合设计要求;③要求图文的蚀刻深度要满足设计要求;④工件在蚀刻过程所发生的形变要在设计规定的范围之内;等等。
再如，对于结构用途的产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①经蚀刻后的工件其蚀刻深度是否在设计规定的公差范围之内;②经蚀刻后的工件其横向蚀刻尺寸变化后的实际尺寸是否在设计规定的公差范围之内，③经蚀刻后的工件表面粗糙度是否满足设计要求等等。
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准***机，***系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准***、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时""到硅片上的过程。
光栅刻画:光学中光栅通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。
不锈钢蚀刻机***的形态和蚀刻区的分布，分为蚀刻和局部蚀刻。蚀刻，是指蚀刻分布千整个不锈钢的表面。蚀刻有各处的蚀刻程度相同的均匀蚀刻，也有不同蚀刻区蚀刻程度不同的非均匀蚀刻。在用酸洗液清洗钢铁、铝设备时发生的蚀刻一般属千均匀蚀刻。而蚀刻主要集中在不锈钢表面的某些区域称为局部蚀刻。尽管此种蚀刻的蚀刻量不大，金属腐蚀机制作标牌机器，但是由千其局部蚀刻速度很大，可造成设备的严重***，甚至，因此，其危害更大。不锈钢在不同的环境条件下可以发生不同的局部蚀刻。例如孔蚀、缝隙蚀刻、应力蚀刻、晶间蚀刻、磨损蚀刻等。还有按蚀刻的环境条件把蚀刻分为高温蚀刻和常温蚀刻：干蚀刻和湿蚀刻等。
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