




温度.对化学抛光的效率和表面质量有重要的影响.温度高抛光加速,但产生较多的气体,有可能产生气体缺陷.对于新配制的化学抛光槽液,温度不宜太高;若溶铝量达到平衡时操作温度宜高些.随着溶铝量的增加,要维持一定的抛光效率就要提高槽液的温度,如果槽液温度超过设定的上限温度105℃,仍不能得到满意的光亮度,应根据化验结果调整槽液浓度或相对密度.此外,还要注意保持槽液各处温度的均匀性.
①温度。化学抛光时,溶解速度随着抛光液温度的提高而显著地增加。此外,三酸抛光工艺,强氧化性酸(如浓、等)在高温时氧化作用也会显著提高。在化学抛光时,由于这些酸的溶解和氧化作用会同时发生,故多数情况下都是把抛光液加热到较高温度再进行化学抛光。需要提高温度再进行化学抛光的金属有钢铁、镍、铅等,若温度低于某一定值,就会出现无光的腐蚀表面,故存在一个形成光泽面的临界温度,三酸抛光销售,在临界温度以上的一定温度范围内,三酸抛光剂,抛光。而这个温度范围又因溶液组成而异。如果高于这个温度范围,会形成点蚀、局部污点或斑点,使整个抛光效果降低。此外温度越高,金属表面的溶解损失也越大
金属的化学抛光,三酸抛光,常用、磷酸、***、盐酸等酸性溶液抛光铝、铝合金、钥、钥合金,碳钢及不锈钢等。有时还加人明胶或甘油之类。抛光时必须严格控制溶液温度和时间。温室从室温到90℃,时间自数秒到数分钟,要根据材料、溶液成分经实验后才能确定值。半导体材料的化学抛光,如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后,还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、***混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。
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