金属蚀刻工艺流程和别的工艺流程一样也是有其本身的特性，仅有对金属蚀刻工艺流程的特性有一个充足的了解，才可以设计出所必须的工艺流程。金属蚀刻工艺流程的特性具体表现在目标性、内在性、性、动态、多样性、结构型、可执行性、可管理性、可靠性、公信力和申请强制执行性等10个层面，下边五金蚀刻设备厂家就对于这种因素开展剖析探讨。
说白了目标性，便是根据某一工艺流程的整个过程有一个确立的輸出，换句话说要做到某一特殊的目地。针对金属蚀刻来讲，这一目地便是达到其设计工程图纸对商品的规定。更具体地说，这种规定包含商品的蚀刻规格规定、经蚀刻后的外表粗糙度规定等。
例如，针对装饰设计主要用途的文图蚀刻商品，历经所设计的工艺流程生产加工制做进行后所需做到的总体目标:①规定经蚀刻后的文图画面质量要高;②规定经蚀刻后金属材料外表粗糙度要合乎设计规定;③规定文图的蚀刻深层要达到设计规定;④工件在蚀刻过程中所产生的变形要在设计要求的范畴以内;这些。
再如，针对构造主要用途的商品，历经所设计的工艺流程生产加工制做进行后所需做到的总体目标:①经蚀刻后的工件其蚀刻深层是不是在设计要求的尺寸公差范畴以内;②经蚀刻后的工件其横着蚀刻规格转变后的具体规格是不是在设计要求的尺寸公差范畴以内，③经蚀刻后的工件外表粗糙度是不是达到设计规定这些。
刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。
扩展资料：
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
1.手动：指的是对准的调节方式，钛金电腐蚀机金属上刻字，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，河南钛金电腐蚀机，对准精度可想而知不高了；
2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行***调谐；
3.自动： 指的是 从基板的上载，***时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
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