点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热
缺点电子结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜质量
PVD加工特点
1).PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，装饰镀钛加工服务，对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应***行化学电镀铬，然后才适合镀PVD，但是水镀后做PVD容易起泡，处理镀钛加工服务，不良率较高；
2).典型的 PVD 涂层加工温度在 250 ℃—450 ℃之间；
3).涂层种类和厚度决定工艺时间，镀钛加工服务，一般工艺时间为 3~6 小时；
4).PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，濮阳镀钛加工服务，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工；
离子镀
在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离，克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷，高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击保证了薄膜的附着力和质量，是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的PVD技术。
根据离化方式的不同，常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。
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