
近日,苏州纳米所印刷电子中心苏文明团队基于混合式印刷增材制造技术,优化压印模具结构参数,实现了2:1深宽比和4μm线宽的凹槽结构,再结合刮填薄层纳米银油墨的种子层,用电筹沉铜技术在凹槽中填满致密的铜。由于电沉积过程金属铜完全限制在凹槽中只能单向生长,避免了扩线,从而获得高深宽比的铜网格,因而在不影响光透过率的情况下增加了金属网格的厚度,同时电镀的网格具有铜本征的高电导率,终在86%的高透光率下,方块电阻低至0.03Ω/□,黑龙江黄铜蚀刻,FOM值超过80000,达到国际先水平(FOM是透明导电膜的综合质量因素,指光透过与方阻的比值,如ITO的FOM<300)。该研究成果以博士研究生陈小连为文章第作者,苏文明与崔铮为共同通讯作者。该工作得到科技部重点研发计划、中科院纳米先导专项等的支持。
标牌在完成蚀刻上漆后还往往要进行必要的后期处理,比如抛光、药白、仿古做旧、清漆保护等工艺。的后期处理对于提高产品档次,黄铜蚀刻厂家,增加产品附加值等有着重大意义。
就目前的蚀刻标牌生产工艺来说,存在着工序流程偏多,整体效率不高、环保效果不佳等诸多现实问题。作为标牌人,我们应该在简化掩膜制作,改进蚀刻原理和方式、实现智能化上漆等方面做出积极的探索和突破。
金属在蚀刻液中蚀刻的过程,首先是金属零件表面发生晶粒溶解的作用;其次在晶界上也发生溶解作用,一般来讲晶界与晶粒是以不同溶解速度发生溶解作用的。在多数金属和合金的多晶体结构中,各个晶体几乎都能采取原子晶格的任何取向。而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及杂质都会和周围的母体金属形成微观原电池。

对金属的蚀刻液来讲,一方面这些原电池的存在,使金属表面存在着电位差,黄铜蚀刻多少钱,电位正的地方得到暂时的保护,电位负的地方被优先蚀刻。另一方面在零件表面具有变化着的原子间距,而且原子间距较宽的地方溶解迅速,一直到显示出不平整的表面为止。然后溶解作用以几乎恒定的速度切削紧密堆积的原子层,表面的几何形状也随着晶粒的溶解而不断变化。晶界上的蚀刻也将进一步影响零件表面。
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