市场上很多产品为了外观，会选择一种真空电镀的工艺，真空电镀是通过物理沉积现象，在真空状态入气，真空电镀厂家，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的产品上吸附形成一层均匀光滑的表面层从而达到效果。
真空电镀适用范围较广，比如ABS料，ABS加PC料，真空电镀厂，PP料，尼龙料，真空电镀工艺，这里我们***讲PP料，因PP料回收料多同时表面极性差难附着，所以对电镀厂来说是需要简单方便的工艺来解决的
PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。
PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，惠州真空电镀，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不需再加工。
磁控溅射镀膜设备是一种多功能、的镀膜设备。可根据用户要求配置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等，组态灵活、用途广泛，主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件镀铝、铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜，所镀膜层均匀、致密、附着力强等特点，可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
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