




化学抛光:
可用于仪器制造、铝型材铝质反光镜的制造,化学抛光销售,以及其他零件和镀层的装饰性加工.同电解抛光比较,化学抛光的优点是:不需外加电源,可以处理形状更为复杂的零件,生产等.但是化学抛光的表面质量,化学抛光生产商,一般略低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光过程中会析出氧化氮等***气体。其实这点现在的技术也已经解决,市面上有如两酸化学抛光高光光亮剂等抛光***,其不含,不会产生有危害的黄烟
为了保证化学抛光的效果,必须使金属表面溶解,并在表面上形成液体膜或固体膜。因此,金属的化学抛光液必须具有溶解金属的能力和形成保护膜的能力。化学抛光液的基本组成一般包括腐蚀剂、氧化剂、添加剂和水。腐蚀剂是主要成分,如果零件在溶液中不溶解,抛光就不能进行。氧化剂和添加剂可***腐蚀过程,使反应朝有利于抛光的方向进行。水对抛光液浓度起调节作用,便于反应产物的扩散。
化学抛光是靠化学***的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单,能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件,生产。化学抛光可作为电镀预处理工序,也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。为了进行化学抛光,次磷,必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解,因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平,去除较粗糙的表面不平度,获得平均为数微米到数十微米的光洁度;第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,化学抛光,在0.1~0.01μm,相当于光波长的范围。可将阶段称为宏观抛光或平滑化,把第二阶段称为微观抛光或光泽化。
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