离子镀
在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离，克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷，高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击保证了薄膜的附着力和质量，镀钛怎么收费，是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的PVD技术。
根据离化方式的不同，常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。
这种镀钛涂层工艺生产出来的精密零件，往往具有很好的耐磨性，较其他未氮化钛涂层的金属而言，更能够承受腐蚀等不良环境的考验，使用寿命较长，且氮化钛用作镀钛涂层可有效的增强金属的表面硬度，使金属的耐磨性增强，氮化钛良好的导电性能能够使产品适用于***、玻璃以及手饰等行业有很多公司搞滚子结构不，出现效果不明显，认为是结构不行，其实是人不行而已。他们会采用结构镶件表面镀钛来加大光滑度，这种也可以，不过效果稍差
基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，因而形成的膜层结构疏松，颗粒粗大，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，镀钛价格，形成的薄膜容易结晶化，周口镀钛，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜.
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