PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。
PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不需再加工。
ABS、PPMA、POM、 PP、PC、ABS+PC等树脂类均可成型真空电镀，要求底材为纯原料，电镀级别更佳，不可加再生材;底漆：UV底漆，对基材表面做预处理，为膜层的附著提供活性界面，底漆厚度一般在5-10um，特殊情况可酌情加厚;膜层：靶材蒸发的结果，惠阳真空电镀，VM膜层可导电，NCVM镀层不导电，且抗干扰性效果很好，真空电镀厂，膜层厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色，同時对真空膜层起保护作用，再加上UV、PU的表面装饰，效果更漂亮，厚度 一般在8-10um，特殊情況可酌情加厚 。面漆颜色多变效果机理：利用三基色原理将面漆与色浆混合调试达成.
市场上很多产品为了外观，会选择一种真空电镀的工艺，真空电镀是通过物理沉积现象，在真空状态入气，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的产品上吸附形成一层均匀光滑的表面层从而达到效果。
真空电镀适用范围较广，比如ABS料，ABS加PC料，PP料，塑胶真空电镀，尼龙料，这里我们***讲PP料，因PP料回收料多同时表面极性差难附着，所以对电镀厂来说是需要简单方便的工艺来解决的
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