




铝化学抛光技术?
一、对铝制品表面进行机械抛光:al.com5?z4?n6?T#?]:?N8?p,?F3?^
1、机械抛光工序为:粗磨、细磨、抛光、抛亮、喷砂、刷光或滚光等,根据制表面的粗糙程度来适当采取不同的工序。???二、化学除油除膜:6?z,两酸抛光哪家好,?R1?d3?w;?%?R1?w
化学除油除膜过程是借着化学反应和物理化学作用,两酸抛光配方,除去制件表面的油污和自然氧化膜。化学除油除膜一般采用酸性除油除膜剂AC。:?b#?^#?﹨4??;?b7?s2???使用条件:?
1、浓度:2-7%6?d2?X)?r*?M??G8?M
2、工艺条件:?温度:20-30℃?时间:2-10min???酸洗液的配方:中国铝业论坛$?V:?n"?e"?^2?h8?L8?N3?c
浓硝液200~270ML/L中国铝业论坛;?j"?{&?[%?X-?b5?d
温度:室温时间:1-3min?
除去含合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方:9?R9?F9?G9?r8?~9?P"?i
浓3体积;浓1体积。???温度:室温?时间:5-15min:?r7?T0?_-?a+?m1?H0?u
铝及铝合金制件经化学酸洗后,必须立即用流动温水和冷水清洗,以除去残酸,两酸抛光剂,然后浸入水中,以备化学抛光。
多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,南平两酸抛光,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
化学抛光适用什么材料?工艺原理是如何的
您好!
化学抛光主要用不锈钢、铜及铜合金等。化学抛光对钢铁零件,尤其是低碳钢有较好的抛光效果,所以对于一些机械抛光时较为困难的钢铁零件,可采用化学抛光。
原理:化学抛光是靠化学***的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单,能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件,生产。化学抛光可作为电镀预处理工序,也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。
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