纳克无损公司(图)-工业CT检测公司-工业CT检测

CT检测

工业CT检测技术是以X 射线和γ射线作为辐射源的工业CT，其工作原理就是射线检测的原理。计算机层析成像技术使用不同的能量波作为辐射源，其工作原理也有所不同。在工业无损检测中广泛应用的是透射层析成像技术(ICT)，工业CT检测，使用的辐射源多为x射线或y射线，包括低能X 射线或由产生的高能X射线，常用的γ射线同位素则有192Ir、137Cs 和60Co 等。

CT检测面探测器

面探测器主要有三种类型：高分辨半导体芯片、平板探测器和图像增强器。半导体芯片又分为CCD和CMOS。CCD对X射线不敏感，表面还要覆盖一层闪烁体将X射线转换成CCD敏感的可见光。

半导体芯片具有小的像素尺寸和大的探测单元数，工业CT检测公司，像素尺寸可小到10微米左右，探测单元数量取决于硅单晶的大尺寸，工业CT检测报价，一般直径在50mm以上。因为探测单元很小，信号幅度也很小，为了增大测量信号可以将若干探测单元合并。

CT检测原理

工业CT是在射线检测的基础上发展起来的，其基本原理是：让一束X射线投射在物体上，通过物体对X射线的吸收（多次投影）便可获得物体内部的物质分布信息。

当强度为I0的一个窄束X射线穿过吸收系数为的物体时，其强度满足指数衰减关系：

式中为X射线所穿过物质层厚度。在实际情况中，所研究的物体往往不是由单一成分组成的，当物体由若干个不同成分组成时，物体内部各处的穿透率也将可能不同。