河北硅片除气装置-北京科创真空公司-硅片除气装置价格

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气储存柜

本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可***工作。

加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，发热体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310S）板材料，并且焊接多道加强筋以保证不变形。

真空除气储存柜

一种真空除气存储柜，包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等，柜体内设置有一个或多个储物室，硅片除气装置价格，储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端，柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖，储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板，托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连，真空除气炉。

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。

请小心将物品放入机台，河北硅片除气装置，关上箱门，硅片除气装置公司，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到面部。