显影是在正性光刻胶的***区和负性光刻胶的非***区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。显影过程如图1 [1] 所示，非***区的光刻胶由于在***时并未发生化学反应，在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非***区的光刻胶被保留下来。在显影时***区和非***区的光刻胶都有不同程度的溶解。***区与非***区的光刻胶溶解速度反差越大，显影后得到的图形对比度越高。
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显影的主要过程如下：
对准***→***后烘→显影→坚膜→显影检测。
对准***（Alignment and Exure）
对准***阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜***机，手机壳***显影，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准***过程通常在黄光实验室中进行。
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