昆山韩铝化学(图)-两酸抛光工艺-池州两酸抛光

化学抛光：

可用于仪器制造、铝型材铝质反光镜的制造，以及其他零件和镀层的装饰性加工.同电解抛光比较，化学抛光的优点是：不需外加电源，可以处理形状更为复杂的零件，两酸抛光剂，生产等.但是化学抛光的表面质量，一般略低于电解抛光，溶液的调整和再生也比较困难，往往抛光过程中会析出氧化氮等***气体。其实这点现在的技术也已经解决，市面上有如两酸化学抛光高光光亮剂等抛光***，其不含，不会产生有危害的黄烟

金属的化学抛光，池州两酸抛光，常用、磷酸、***、盐酸等酸性溶液抛光铝、铝合金、钥、钥合金，碳钢及不锈钢等。有时还加人明胶或甘油之类。抛光时必须严格控制溶液温度和时间。温室从室温到90℃，两酸抛光配方，时间自数秒到数分钟，要根据材料、溶液成分经实验后才能确定值。半导体材料的化学抛光，如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后，两酸抛光工艺，还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、***混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。

抛光时，高速旋转的抛光轮（圆周速度在20米/秒以上）压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可达Ra0.63～0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观。 大批量生产轴承钢球时，常采用滚筒抛光的方法。粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中，滚筒转动时，使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。