气净化设备
第I种
直接脱氧法。就是使用活性金属、催化剂与气中的氧气进行反应，消化掉气中的氧气，从而达到脱氧的目的，经过分子筛吸收掉气中的水份，使气的含水量小于1ppm。
第II种
是采用吸气剂。在一定温度下，吸气剂可吸收氮、氢、氧、、二氧化碳、等气体经吸收处理后，气的纯度可达到6个九，这种工艺生产出来的高纯气体适用于各类仪器仪表适用要求。
第I种方法设备***小，第II种方法设备纯化纯度高但***相对较大。
高纯供气系统
集中供气系统需要规划设计一个***的气瓶室，根据实验室的布局和用气情况在实验室的每层或几层设置一个气瓶室，也可在实验室外部设计一个为整个实验室供气的气瓶室，钢瓶储存区应合理布置，保持可燃性容器和助燃性容器间的安全间距。气瓶室墙宜采用实体结构，门应设计为防爆门，安装防爆灯以及防爆风机，高纯供气生产厂家，万一发生事故可减少实验室区域的***性。存放钢瓶屋内不宜吊顶。气瓶室内还应设有气体泄漏、低压换气报警设施，及排风装置，同时设计时还应考虑防雷、防静电、空调设备等设施。为了保证气体纯度和压力的稳定性，需采用多级减压方式供气，宜设置气路吹扫、排空、杂质过滤、水分和油汽净化等装置，有条件的可采用双气源自动切换模式供气。
大宗特气供气系统介绍
大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大规模集成电路厂（气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太阳能电池生产线（气体种类包括NH3），发光二极管的磊晶工序线（气体种类包括NH3）、5代以上液晶显示器工厂（气体种类包括4、3、NF3）、光纤（气体种类包括SiCl4）、硅材料外延生产线（气体种类包括HCL）等行业。它们的***规模巨大，采用1***的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。
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