显影的主要过程如下：
对准***→***后烘→显影→坚膜→显影检测。
对准***（Alignment and Exure）
对准***阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜***机，即光刻机，标牌***显影公司，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准***过程通常在黄光实验室中进行。
显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。总体上，在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。首先，标牌***显影报价，一部分晶圆会从上一步留下来问题而要停止工艺处理。这些晶圆在显影检验时会被拒绝接受并进行处理。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆；提供工艺性能和工艺控制数据；及分拣出需要重做的晶圆。
显影是在正性光刻胶的***区和负性光刻胶的非***区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。显影过程如图1 [1] 所示，标牌***显影哪家好，非***区的光刻胶由于在***时并未发生化学反应，标牌***显影，在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非***区的光刻胶被保留下来。在显影时***区和非***区的光刻胶都有不同程度的溶解。***区与非***区的光刻胶溶解速度反差越大，显影后得到的图形对比度越高。
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