首先采用深反应离子刻蚀制作微通道，然后沉积派瑞林涂层C在微通道上，同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上，在其上制作金电极，在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合，剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放（Parylene）涂层微通道。通过控制（Parylene）涂层沉积的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道，同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法，可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道，并通过释放工艺可以获得很好的派瑞林涂层微通道，同时可以重复使用硅模，普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳，湿气及气体渗透性极低，具高屏障效果，抗酸碱性。
1.派瑞林真空镀膜是一种在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀膜件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。如真空镀铝、真空镀铬等。
2.光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层(或多层)金属(或电介质)薄膜的工艺过程。光学零件表面镀膜的目的是为了满足减少或增加光反射、分束、分色、滤光和偏振的要求。常用的涂膜方法有真空涂膜(物理涂膜之一)和化学涂膜。
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