从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，
以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状，通以电流，加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质，电阻加热源主要用于蒸发Cd、
Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。
相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，五金镀膜加工，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，长安五金镀膜，带正电的离子撞击阴极，真空五金镀膜，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
真空镀膜产品其膜面不仅亮度高，质感细腻逼真，同时制作成本较低，有利于环境保护，较少受到基材材质限制的优点，五金镀膜厂，被越来越多的应用在化妆品外壳的表面处理。
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