半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，电子超纯水设备定制，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，保定电子超纯水设备，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，电子超纯水设备厂，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
选择EDI超纯水系统应注意哪些问题?
选择EDI超纯水系统应注意哪些问题？ 1、产水水质：EDI超纯水系统可生产电阻率为0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm水质，不同的行业有不同的水质要求，导致采用的水处理工艺不同，使用的***不同，成本自然会有所不同。 超纯水由美国科技界生产，目的是利用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适合的超临界精细技术开发超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)。目前超纯水已广泛应用于生物、医药、汽车等领域。除了水分子(H20)，水中几乎没有杂质，更不用说***、病毒和其他有机物质了。当然，***不需要矿物质和微量元素。超纯水很难通过普通工艺获得。如果水的电阻率大于18mΩ*cm，电子超纯水设备价格，接近18.3mΩ*cm，则称为超纯水。
超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀的本质是利用电解原理，让金属或其他材料的产品表面附有金属膜，使产品具有、耐腐蚀、耐磨、美观等功能。因此电镀行业对水质要求更为严格，稍有疏忽，后果就是影响产品美观，降低电镀工艺性能，因此PCB电镀涂装工业经常使用超纯水设备，以满足清洁用水的需要。 传统的超纯水制取工艺是采用阴阳树脂交换设备，其缺点是树脂使用一段时间后要经常再生。随着膜分离技术的不断成熟，采用反渗透工艺，或在反渗透后通过EDI和抛光混床工艺，以制得超纯水，其出水电导率可达18.2MΩ，符合电镀行业的用水需要。
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