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苏州晶淼半导体设备有限公司

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:江苏 苏州
联系卖家:王经理
手机号码:13771773658
公司官网:www.jmbdt.com
企业地址:苏州工业园区金海路34号
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苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、PP/PVC通风柜/厨、CDS集中供液系统一站式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。我们的每台设备除标准化制作外,还可根据客户的工艺需求和工作环境的具......

显影清洗机-显影-苏州晶淼半导体(查看)

产品编号:1000000000019953992                    更新时间:2022-11-23
价格: 来电议定
苏州晶淼半导体设备有限公司

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  • 主营业务:半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备
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等离子刻蚀机的制备工艺简单 2.即使在处理复杂的轮廓结构时,离子刻蚀设备等离子蚀刻机也可以进行有针对性的准备。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅层的形态。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅层的形态。等离子蚀刻设备可以实现表面清洗、表面活化、表面蚀刻。并且表面涂层等特性可以达到不同的处理效果,显影,这取决于被处理的材料不同。




酸洗时金属时可能会有腐蚀金属表面的情况发生,可以使用酸性金属清洗剂来代替酸洗溶液,这样一来,既保证了清洗剂效果,对金属材质也不会产生损伤。也可以在酸洗时在酸洗溶液中加入酸性金属清洗剂,这种清洗剂会***酸洗溶液对金属材料的腐蚀,***酸洗溶液挥发,避免酸雾的形成,可保护***健康安全。

化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,显影清洗机,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,显影腐蚀台,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。




反应离子刻蚀原理是将通入刻蚀室的工艺气体分子解离,产生等离子体。一方面由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应,另一方面由于射频自偏压作用,等离子体中的正离子对被刻蚀材料,表面进行物理轰击,从而以物理化学相结合的方法达到材料表面刻蚀的目的。

清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。





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