相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
真空镀膜玻璃真空镀膜
相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，玻璃真空镀膜工厂，它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，玻璃真空镀膜加工，用蒸发器加热带蒸发物质，容桂玻璃真空镀膜，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
离子镀膜
即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的，因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。
真空卷绕镀膜
真空卷绕镀膜是一种利用物***相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。
上述四种都属于物***相沉积技术应用(PVD)。
接下来是化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜，玻璃真空镀膜加工厂，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。
束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。
离子镀膜
即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的，因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。
真空卷绕镀膜
真空卷绕镀膜是一种利用物***相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。
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