在硅片的清洗过程中，清洗液的温度是一个关键因素。合适的清洗温度能够加快油污的去除，得到较佳的清洗效果。当硅片浸到清洗液中，硅片上的油污产生膨胀，油污内部以及油污与硅片之间的作用力减弱，盐城TMAH，温度越高，油污膨胀越大，这种作用力就越弱，表面活性剂分子越容易将油污撬离硅片表面。同时，温度的变化可导致胶束本身性质和被增溶物在胶束中溶解情况发生变化。聚氧乙烯型表面活性剂的聚氧乙烯链（CH2CH2O）n在水中产生水合作用，与水分子中的氢形成氢键。温度升高，氢键减弱，有的甚至断裂，水合作用减小，胶束易于形成，胶束的聚集数亦显著地增加，对油脂等污染物的增溶量增大，TMAH清洗机，这种情况有利于硅片的清洗。当温度升高到60℃左右时，聚氧乙烯链（CH2CH2O）n加速脱水并产生卷缩，使胶束起增溶的空间减小，增容能力下降，清洗液由透明变成乳浊液，这一温度称做溶液的浊点温度。只有温度接近表面活性剂溶液的浊点温度时，增溶能力较强，TMAH腐蚀机，因而清洗液的温度定在60℃比较合理。
晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机更好的清洗效果，更能适应于半导体新制程工艺。
根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室大处理速度可达到35片/小时。
可根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗内部集成精密的化学药液配比装置和废液回收装置（可选）。
应用：专为清洗和蚀刻而设计，适用于前道和后道工艺清洗。
ND-0105吊臂式超声波清洗机，TMAH腐蚀台，是由上料、超声初洗、超声波清洗、市水超声漂洗、喷淋漂洗、热风烘干、下料等七个工位组成的一条吊臂式超声波清洗机，其工作原理是利用超声波空化渗透力强的机械振动冲击工件表面并结合溶剂型清洗剂的化学除油、去污作用使工件表面洁净；同时结合热风烘干等工艺，使工件从清洗到洁净一次完成。
