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苏州晶淼半导体设备有限公司

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:江苏 苏州
联系卖家:王经理
手机号码:13771773658
公司官网:www.jmbdt.com
企业地址:苏州工业园区金海路34号
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企业概况

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、PP/PVC通风柜/厨、CDS集中供液系统一站式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。我们的每台设备除标准化制作外,还可根据客户的工艺需求和工作环境的具......

显影清洗-显影-苏州晶淼半导体(查看)

产品编号:1000000000020160704                    更新时间:2022-11-29
价格: 来电议定
苏州晶淼半导体设备有限公司

苏州晶淼半导体设备有限公司

  • 主营业务:半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备
  • 公司官网:www.jmbdt.com
  • 公司地址:苏州工业园区金海路34号

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产品详情





金属网片的滤网、喇叭网、隔柵网片,金属工艺品上书签、铭牌、标牌及金属面花纹制作都是通过实现片状的方式来处理。从材质的角度蚀刻片中的铜外观上不仅亮丽、硬度低、很容易加工,可以和铁来焊接组合。不锈钢材质则能细腻的制作出细部线条,显影清洗,硬度较高,一般选择蚀刻来做工艺精度上不仅是产品光滑,也优于切割加工弊端。

学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,显影,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。





刻蚀是用化学、物理、化学物理结合的方法有选择的去除(光刻胶)开口下方的材料。被刻蚀的材料包括硅、介质材料、金属材料、光刻胶。刻蚀是与光刻相联系的图形化处 理工艺。刻蚀就是利用光刻胶等材料作为掩蔽层,通过物理、化学方法将下层材料中没被上层遮蔽层材料遮蔽的地方去掉,显影设备,从而在下层材料上获得与掩膜板图形对应的图形。




反应离子刻蚀原理是将通入刻蚀室的工艺气体分子解离,产生等离子体。一方面由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应,另一方面由于射频自偏压作用,等离子体中的正离子对被刻蚀材料,表面进行物理轰击,从而以物理化学相结合的方法达到材料表面刻蚀的目的。

清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,显影清洗机,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。





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