学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，硅片，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
按照刻蚀工艺划分，其主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀。由于干法刻蚀可以实现各向异性刻蚀，符合现阶段半导体制造的高集成度的需求，因此在小尺寸的***工艺中，硅片刻蚀机，基本采用干法刻蚀工艺，硅片酸洗，导致干法刻蚀机在半导体刻蚀市场中占据相对主流地位。而按照被刻蚀材料划分，可以分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀。目前由于下游的需求场景较多，介质刻蚀机与硅刻蚀机的市场占比较高，成为市场主流。
单片蚀刻机，环保刻蚀机加盟，这种蚀刻机一般只适合刀模，铜版，锌板的蚀刻，蚀刻机喷淋是固定的，梅州环保刻蚀机，内置一个360度转盘，金属板材扣于转盘底部，通过转盘的转动来使得蚀刻板表面得到一个均匀的蚀刻深度。
是单辊蚀刻机，这种蚀刻机只适合做压花辊蚀刻。常用于织造布匹，硅片酸洗机，皮革等表面压花辊表面花纹蚀刻。蚀刻为两个宽度可调节的喷架，压辊置于两喷架中间，通过电机带过压辊的固定轴，让蚀刻药液喷淋于压辊表面，从而得到一个表面平整的纹理效果。
蚀刻机就是水平喷淋式蚀刻机，也是平面蚀刻产品中用途广泛的蚀刻设备
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