金属真空镀膜加工厂家-金属真空镀膜-泰坦金属

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，金属真空镀膜加工厂，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，金属真空镀膜，称为蒸发镀膜。这种方法***早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

真空镀膜基础知识

　　一，镀膜作业步骤:

　　准备工作

　　1.镀膜前洗净

　　2.抽检镜片外观确认(裂边，伤痕，不洁)情况，全检镜片锁板情况(镜片倾斜，金属真空镀膜加工厂家，

　　3.确认好准备镀膜的镜片(数量，机种，面别)并做好相应记录

　　4.上伞，

　　将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周，勿碰到镜片

　　5.区分需要镀膜镜片种类面别

　　6.清洁坩埚电子周围用铜刷刷，金属真空镀膜加工，吸，并添加***

　　7.确认晶振片，监控片是否OK在新的位置

　　8.确认机台内无杂物，后关门排气加热

　　9.镀膜

　　选取相应的制程

　　10.人员镀膜过程中进行监控

　　11.下伞

　　将镀膜后的镜片从伞架取下，放入包装盒

　　12.抽检

　　主要为膜点，雾状，颜色异常，不洁

　　13.光谱测量

　　采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计

　　14.伞架每圈抽1PCS共5圈

　　15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)

　　16.光谱量测OK后可送出

上述四种都属于物***相沉积技术应用（PVD）。

接下来是化学气相沉积（CVD）。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。