金属真空镀膜加工-寮步金属真空镀膜-泰坦金属制品(查看)

但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

化学组分上的均匀性：

就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

真空电镀古色还能够在工件外表通过其他的工艺，比如构成各种构造图，增强装饰性效果，金属真空镀膜加工厂，真空镀膜技术会得到与基体的结合力强，金属真空镀膜加工，饰品外表易于维护耐腐蚀，寮步金属真空镀膜，耐刮擦。 VD镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

真空镀膜的优缺点

1、优点

表面有较好的金属质感且细腻。

颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯；水电镀颜色较单调，一般只有亮银、亚银等少数几种。

基材材质选用范围广，金属真空镀膜厂，如PC、ABS、PMMA，（水镀只能选择ABS、ABS+PC）。

通过镀铟锡可做成半透的效果，灯光可以从产品中发出来。

不污染环境。

2、缺点

蒸镀靶材受熔点限制，太高熔点的不易采用。

真空蒸镀不过UV油，其附着力较差，要保证真空蒸镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理。