常州晶圆-晶淼半导体-晶圆酸洗设备

民用清洗领域

40岁以上的人可能还会记得20世纪80年代以前．那几乎就是你每月所有的清洗剂了．洗衣服要用它。洗头要用它，洗澡也要用到它．改革开放以来，晶圆酸洗设备，中国的民用清洗领域发生了翻天覆地的变化．从早期的“威娜宝”到今天的“海飞丝”，“飘柔”，各种各样的洗发香波琳琅满目，各种洗涤用品广告充斥着电视的黄金频段，现在可能已经很少有人再用过去那种肥皂洗头了．

与此同时，规模化的洗涤公司遍及大街小巷．大大小小的家庭清洁．保洁公司大量出现，民用清洗领域呈现商业化。随着我国国民经济的持续高速发展．人们对日常生活质量提出了更高的要求，对各种清洗的需求日增．民用清洗形成了巨大的市场．

从远古以来．人类就了解和掌握了一些与自身有关的清洗知识．在古代，人们除了用清水去除沾附在身体和衣物上的泥沙之外，还知道用草木灰去除衣物上的油性污垢．纯碱和肥皂是人类至今仍然在大量使用的历史为悠久和普遍的清洗用品．20世纪随着化学工业特别是石油工业的发展而出现的合成洗涤剂，以及随之出现的洗涤设备，极大地改变了人们的日常生活．

名目繁多的清洗剂也摆在每个家庭的厨房，各种清洗剂如“玻璃水”，“瓷砖灵”。“去油王”等大量进入市场．

面板显示使用的是玻璃基板作为电路的载体，晶圆清洗机，所有的膜质以及对膜质光刻后的图形都是依附在玻璃基板上。在每次成膜或者光刻前都要对玻璃基板表面进行深入清洁，虽然玻璃基板是在无尘车间里运行，但是，常州晶圆，还是会存在各种***（particle）：无机类***和有机类***，所以，清洗设备的较大作用就是去除表面的***，来提升产品的整体良率。

单晶圆清洗(SWC)系统，晶圆酸洗台，用于***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的***大化支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。